近日，第24届国际分子束外延会议（International Conference on Molecular Beam Epitaxy, ICMBE 2026）在美国密歇根大学安娜堡分校举行。南京大学现代工程与应用科学学院聂越峰教授应邀作大会报告（Plenary Speech），报告题目为“Exploring emergent phases in complex oxides via molecular beam epitaxy”。
ICMBE是分子束外延领域历史最悠久、最具权威性的国际顶级学术会议，每两年举办一次，汇聚了全球MBE技术与材料研究的顶尖学者。本次会议中，包括聂越峰教授在内的四位学者受邀担任大会报告人，其余三位分别为日本大阪公立大学的Masataka Higashiwaki教授、英国伦敦大学学院的Huiyun Liu教授以及美国纽约城市大学的Maria Tamargo教授。受邀在该会议上作大会报告，是对学者在国际上MBE 领域学术影响力的重要认可。
聂越峰教授在报告中系统介绍了其团队利用氧化物分子束外延（Oxide MBE）技术在复杂氧化物薄膜体系中的系列进展。报告重点展示了通过原子级精确的薄膜生长与界面调控，在镍基超导、钛酸钡（BTO）铁电薄膜等体系中所发现的新奇物态与调控效应，涵盖从常压稳定镍基超导薄膜的构筑到晶圆级BTO薄膜硅基异质外延等多项代表性成果，引起了与会学者的广泛关注与讨论。
信息来源：https://icmbe2026.eecs.umich.edu/about/invited-speakers
